Selfie Project

Gesichtsmaske Donut Worry Recovering Glaze Wash-Off Mask - 10 g

Nota INCI Beauty
7,3 / 20

Composizione

AQUA, *******, BUTYLENE GLYCOL, BUTYROSPERMUM PARKII BUTTER, CI 11710, *******, CI 77891, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, *******, CELLULOSE, CETEARYL ALCOHOL, CHARCOAL POWDER, *******, CL 73360, CL 74160, CL 74260, COPPER GLUCONATE, DICAPRYLYL CARBONATE, ETHYLHEXYLGLYCERIN, GLYCERIN, *******, KAOLIN, MAGNESIUM ASPARTATE, MANNITOL, MICA, *******, ORYZA SATIVA STARCH, *******, PALMITOYL TRIPEPTIDE-1, PARFUM, PENTYLENE GLYCOL, PHENOXYETHANOL, POLYSORBATE 20, POTASSIUM SORBATE, *******, SODIUM BENZOATE, SODIUM LACTATE, STEARETH-2, STEARETH-21, *******, TALC, TOCOPHEROL, VACCINIUM MYRTILLUS FRUIT EXTRACT, XANTHAN GUM, ZEA MAYS STARCH, ZINC GLUCONATE (*).

(*) Gli ingredienti sono visualizzati in ordine alfabetico e alcuni sono stati deliberatamente nascosti (*********). Per ottenere l'esatta composizione, si prega di utilizzare le nostre applicazioni.

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