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Rich & Repair Mask Aprés-shampooing

Composizione

AQUA/WATER/EAU, *******, BENZYL ALCOHOL, CETYL ALCOHOL, CITRIC ACID, *******, HELIANTHUS ANNUUS (SUNFLOWER) SEED OIL, HYDROGENATED ETHYLHEXYL OLIVATE, *******, ISOPROPYL ALCOHOL, LACTOBACILLUS FERMENT LYSATE, LEUCONOSTOC/RADISH ROOT FERMENT FILTRATE, *******, PARFUM/FRAGRANCE, PHENOXYETHANOL, PROPYLENE GLYCOL, SODIUM BENZOATE, STEARYL ALCOHOL, TAPIOCA STARCH, THEOBROMA GRANDIFLORUM SEED BUTTER, *******, TOCOPHERYL ACETATE (*).

(*) Gli ingredienti sono visualizzati in ordine alfabetico e alcuni sono stati deliberatamente nascosti (*********). Per ottenere l'esatta composizione, si prega di utilizzare le nostre applicazioni.

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